硅片

硅片双面减薄
半导体硅片双面磨砂轮,是专为晶圆双面精密磨削设计,具有高平面度、低损伤、低污染、高寿命、磨削稳定,用于实现硅片高精度定厚、平行度控制与低损伤表面加工。
硅片双面减薄

应用场景


半导体硅片双面磨砂轮,是专为晶圆双面精密磨削设计,具有高平面度、低损伤、低污染、高寿命、磨削稳定,用于实现硅片高精度定厚、平行度控制与低损伤表面加工。

· 厚度均匀性 & 平面度极高

· 低损伤、低亚表面损伤

· 零金属污染

· 自锐性好、磨削力稳定

· 冷却 & 排屑好

· 磨耗低、寿命长


型号规格


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6A2C


规格

DTHXW结合剂粒度

6A2C

160258055V3000


磨削工件

Si 片(双面减薄,单面去除 42.5μm)

工件尺寸

12 英寸

砂轮规格

6A2C D160 V 3000

磨耗比 (砂轮:工件)

1:28

粗糙度

表面均匀无深纹

TTV

≤0.5μm

Warp

≤10μm

Bowl

≤2μm